廣告
GdF3光學(xué)薄膜擁有優(yōu)異的光學(xué)性能, 在深紫外光學(xué)薄膜中有廣泛應(yīng)用, 以193nm投影光刻為例, 其系統(tǒng)有30~40個(gè)光學(xué)元件, 且部分元件口徑高達(dá) 400mm,為了使系統(tǒng)高質(zhì)量成像, 不僅要求制備的薄膜具有極高的透過(guò)率和良好的抗激光損傷能力, 而且為了膜厚均勻性控制提出了極高的要求.
因此某光學(xué)薄膜制造商采用KRI 考夫曼射頻離子源 FRICP220 和射頻離子源 FRICP140輔助濺射制備GdF3光學(xué)薄膜, 以求獲得透過(guò)率高且良好抗激光損傷能力的均勻性的GdF3光學(xué)薄膜.
客戶離子束濺射系統(tǒng)裝置圖如下圖:
其中用于濺射的離子源為 20cm的 KRI 射頻離子源 RFICP220, 輔助離子源為12cm的KRI RFICP140.
.jpg)
伯東 KRI RFICP220 技術(shù)參數(shù):
|
型號(hào) |
RFICP220 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>800 mA |
|
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
20 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
10-40 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長(zhǎng)度 |
30 cm |
|
直徑 |
41 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
.jpg)
伯東 KRI RFICP140 技術(shù)參數(shù):
|
型號(hào) |
RFICP140 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>600 mA |
|
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
14 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
5-30 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長(zhǎng)度 |
24.6 cm |
|
直徑 |
24.6 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
工藝簡(jiǎn)介:
離子源工作氣體為Xe氣, NF3作為輔助氣體反應(yīng)濺射, 靶材為金屬Gd靶.
KRI RFICP220 主要是用于產(chǎn)生高能Xe離子束轟擊靶材, 通過(guò)動(dòng)量傳遞使靶材原子獲得足夠的動(dòng)能而脫離靶材表面, 射向基板, 在基板的上沉積而形成一層薄膜; 另一個(gè)輔助離子源（KRI RFICP140）通入NF3, 通過(guò)對(duì)生長(zhǎng)中的薄膜的轟擊, 使得薄膜進(jìn)一步致密, 同時(shí)改善薄膜的化學(xué)性能.
運(yùn)行結(jié)果:
KRI 考夫曼輔助濺射制備GdF3光學(xué)薄膜具有極高的透過(guò)率和良好的抗激光損傷能力, 而且膜厚均勻性良好.
伯東是德國(guó) , , , , 美國(guó) , 美國(guó), 美國(guó) , 美國(guó) Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺(tái)灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
