小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD
是一款小型多功能鍍膜儀，額定1800度高溫，自動樣品擋板，靶臺旋轉(zhuǎn)，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能。
真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程：（1）加熱蒸發(fā)過程：包括由凝聚相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^程，每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。（2）氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運(yùn)輸，即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。
（3）蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā)，凝聚，成核，核生長，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)
低于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉(zhuǎn)變過程。
編輯
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜
115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
技術(shù)參數(shù)
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控制方式
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7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制
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加熱方式
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數(shù)字式功率調(diào)整器
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鍍膜功能
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0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
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功率
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≤1200W
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輸出電壓電流
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電壓≤12V 電流≤120A
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真空度
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機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa
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擋板類型
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電控
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真空腔室
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石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
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樣品臺
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可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
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樣品臺轉(zhuǎn)速
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8轉(zhuǎn)/分鐘
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樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離
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70-140mm
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蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)
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≤1800℃
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支持蒸發(fā)坩堝類型
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鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩
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預(yù)留真空接口
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KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
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可選配擴(kuò)展
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機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa）
數(shù)顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa）
分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa）
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