小型蒸鍍儀
我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗(yàn)室用戶群體設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)。采用大抽速分子泵準(zhǔn)無(wú)油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計(jì)，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益彰。兩組/三組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等，特別適合太陽(yáng)能電池、有機(jī)EL、LED顯示管研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。
主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì)：
★ 玻璃鐘罩真空腔室，最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察；
★ 復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵，大抽速準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)（分子泵抽速≥400L/S）；
★ 兩組水冷式蒸發(fā)電極，可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì)；
★ 專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca,
Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機(jī)物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調(diào)節(jié)電流，達(dá)到控制功率效果
★ 具有記憶儲(chǔ)存功能，直接調(diào)出已儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)進(jìn)行鍍膜達(dá)到同樣工藝效果
★ 配置了靶臺(tái)擋板，可手動(dòng)調(diào)節(jié)或自動(dòng)調(diào)節(jié)擋板，及時(shí)遮擋樣品，保證樣品效果
